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鈦黑在制備鈦系鋰吸附劑中的應(yīng)用、鈦系鋰吸附劑及其制備方法和應(yīng)用與流程

文檔序號(hào):42300915發(fā)布日期:2025-06-27 18:43閱讀:15來源:國(guó)知局

本發(fā)明涉及鋰吸附劑,尤其是涉及一種鈦黑在制備鈦系鋰吸附劑中的應(yīng)用、鈦系鋰吸附劑及其制備方法和應(yīng)用。


背景技術(shù):

1、在工程化應(yīng)用中,鈦系鋰吸附劑β-h2tio3的吸附速率較慢。在3小時(shí)的吸附時(shí)間內(nèi),其吸附容量?jī)H為14?mg/g,而其理論飽和吸附容量為143?mg/g,這意味著實(shí)際吸附容量?jī)H達(dá)到理論值的10%。因此,90%的吸附位點(diǎn)未被利用,這嚴(yán)重限制了鈦系鋰吸附劑的推廣應(yīng)用。

2、鈦系鋰吸附劑吸附速率低的原因在于鋰離子在其晶體結(jié)構(gòu)中的遷移速率較慢。通過使用不同的原料合成鈦系鋰吸附劑,可以獲得微觀晶體結(jié)構(gòu)存在差異的產(chǎn)品,而這些差異會(huì)導(dǎo)致鋰離子的吸附速率不同。

3、目前,鈦源的研究主要集中在偏鈦酸、銳鈦型二氧化鈦、金紅石型二氧化鈦和四氫氧化鈦等單一或組合鈦源。然而,使用這些鈦源合成的鈦系鋰吸附劑的吸附速率仍然很低,沒有實(shí)現(xiàn)本質(zhì)上的提升。

4、有鑒于此,特提出本發(fā)明。


技術(shù)實(shí)現(xiàn)思路

1、本發(fā)明的目的在于提供鈦黑在制備鈦系鋰吸附劑中的應(yīng)用、鈦系鋰吸附劑及其制備方法和應(yīng)用,旨在解決現(xiàn)有技術(shù)中上述技術(shù)問題的至少一種。

2、為了實(shí)現(xiàn)本發(fā)明的上述目的,特采用以下技術(shù)方案:

3、本發(fā)明的第一方面提供了一種鈦黑在制備鈦系鋰吸附劑中的應(yīng)用,所述鈦黑的化學(xué)式為ti4o7,具有氯化鈉型立方晶型和金紅石型正方晶形。

4、進(jìn)一步地,所述鈦系鋰吸附劑的化學(xué)式為β-h2tio3。

5、本發(fā)明的第二方面提供了一種鈦系鋰吸附劑的制備方法,包括以下步驟:將鋰源和鈦源混合均勻后,加入復(fù)合粘結(jié)劑和去離子水,進(jìn)行捏合處理;接著經(jīng)擠出成型、低溫焙燒和高溫煅燒,得到鈦系鋰吸附劑前驅(qū)體β-li2tio3;將所述鈦系鋰吸附劑前驅(qū)體β-li2tio3酸化,得到鈦系鋰吸附劑β-h2tio3;其中,所述鈦源為鈦黑。

6、進(jìn)一步地,所述鋰源為可溶性鋰源,且在煅燒過程中會(huì)分解產(chǎn)生氣體。

7、優(yōu)選地,所述鋰源包括硝酸鋰、碳酸鋰和檸檬酸鋰中的至少一種。

8、優(yōu)選地,所述復(fù)合粘結(jié)劑包括聚乙二醇和潤(rùn)滑油。

9、優(yōu)選地,所述聚乙二醇的分子量為200-500。

10、優(yōu)選地,所述潤(rùn)滑油由c、h和o三種元素構(gòu)成。

11、優(yōu)選地,所述潤(rùn)滑油包括甘油和/或植物油。

12、優(yōu)選地,所述植物油包括大豆油、菜籽油、花生油和玉米油中的至少一種。

13、進(jìn)一步地,所述鋰源中的li和所述鈦源中的ti的摩爾比為1.67~2.13:1。

14、優(yōu)選地,所述復(fù)合粘結(jié)劑中,聚乙二醇和潤(rùn)滑油的質(zhì)量比為2~4:1~3。

15、優(yōu)選地,所述復(fù)合粘結(jié)劑的加入量為鋰源和鈦源總質(zhì)量的10~20%。

16、進(jìn)一步地,所述捏合處理的轉(zhuǎn)速為20~40rpm,時(shí)間為10~30min。

17、優(yōu)選地,所述擠出成型的物料長(zhǎng)度為1~3cm,直徑為1~3mm。

18、優(yōu)選地,所述低溫焙燒的溫度為80~150℃,時(shí)間為1~3h。

19、進(jìn)一步地,高溫焙燒時(shí),擠出成型的物料的裝料厚度為8~12cm。

20、優(yōu)選地,所述高溫煅燒的溫度為950~1100℃,時(shí)間為0.3~1h。

21、本發(fā)明第三方面提供了一種鈦系鋰吸附劑,采用上述的制備方法制備得到。

22、進(jìn)一步地,所述鈦系鋰吸附劑的粒徑為100~500nm。

23、本發(fā)明第四方面提供了所述的鈦系鋰吸附劑在鹽湖提鋰或鋰回收中的應(yīng)用。

24、與現(xiàn)有技術(shù)相比,本發(fā)明至少具有如下有益效果:

25、本發(fā)明采用具有氯化鈉型立方晶型和金紅石型正方晶型的鈦黑(ti4o7)作為鈦源,ti4o7中鈦的價(jià)態(tài)包括正三價(jià)(ti3+)和正四價(jià)(ti4+)。這兩種價(jià)態(tài)的存在使得鈦黑同時(shí)具備氯化鈉型立方晶型和金紅石型正方晶型的結(jié)構(gòu)特征。這種獨(dú)特的晶體結(jié)構(gòu)為鋰離子提供了兩種不同的占位點(diǎn),增加了鋰離子的吸附位點(diǎn)數(shù)量。此外,正三價(jià)鈦離子的存在能夠促進(jìn)鋰離子在鈦系鋰吸附劑晶格中的快速遷移,從而有效提高了鈦系鋰吸附劑的吸附速率。

26、本發(fā)明提供的鈦系鋰吸附劑的制備方法,將原料捏合后擠出成型有利于使粉體結(jié)合更加緊密,減少煅燒過程中鋰源向鈦源遷移的距離,利于提高合成效率,縮短高溫煅燒時(shí)間,提高合成效率及降低能耗。

27、本發(fā)明提供的鈦系鋰吸附劑,粒徑僅有100~500nm,具有高的比表面積,在3h內(nèi)的吸附容量至少為116mg/g,達(dá)到理論飽和吸附容量的81%,極大提高了鈦系鋰吸附劑的吸附速率,解決了鈦系鋰吸附劑吸附速率低的技術(shù)難題。

28、本發(fā)明提供的鈦系鋰吸附劑的應(yīng)用,鑒于上述鈦系鋰吸附劑所具有的優(yōu)勢(shì),從而有效提高了鋰吸附的效率,顯著縮短了鋰吸附工藝的時(shí)長(zhǎng),為下游產(chǎn)業(yè)的發(fā)展提供了有力支持,推動(dòng)了相關(guān)領(lǐng)域的技術(shù)進(jìn)步和產(chǎn)業(yè)升級(jí)。



技術(shù)特征:

1.一種鈦黑在制備鈦系鋰吸附劑中的應(yīng)用,其特征在于,所述鈦黑的化學(xué)式為ti4o7,具有氯化鈉型立方晶型和金紅石型正方晶形。

2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的應(yīng)用,其特征在于,所述鈦系鋰吸附劑的化學(xué)式為β-h2tio3。

3.一種鈦系鋰吸附劑的制備方法,其特征在于,包括以下步驟:將鋰源和鈦源混合均勻后,加入復(fù)合粘結(jié)劑和去離子水,進(jìn)行捏合處理;接著經(jīng)擠出成型、低溫焙燒和高溫煅燒,得到鈦系鋰吸附劑前驅(qū)體β-li2tio3;將所述鈦系鋰吸附劑前驅(qū)體β-li2tio3酸化,得到鈦系鋰吸附劑β-h2tio3;

4.根據(jù)權(quán)利要求3所述的制備方法,其特征在于,所述鋰源為可溶性鋰源,且在煅燒過程中會(huì)分解產(chǎn)生氣體;

5.根據(jù)權(quán)利要求3所述的制備方法,其特征在于,所述鋰源中的li和所述鈦源中的ti的摩爾比為1.67~2.13:1;

6.根據(jù)權(quán)利要求3~5任一項(xiàng)所述的制備方法,其特征在于,所述捏合處理的轉(zhuǎn)速為20~40rpm,時(shí)間為10~30min;

7.根據(jù)權(quán)利要求3~5任一項(xiàng)所述的制備方法,其特征在于,高溫焙燒時(shí),擠出成型的物料的裝料厚度為8~12cm;

8.一種鈦系鋰吸附劑,其特征在于,采用權(quán)利要求3~7任一項(xiàng)所述的制備方法制備得到。

9.根據(jù)權(quán)利要求8所述的鈦系鋰吸附劑,其特征在于,所述鈦系鋰吸附劑的粒徑為100~500nm。

10.一種權(quán)利要求9所述的鈦系鋰吸附劑在鹽湖提鋰或鋰回收中的應(yīng)用。


技術(shù)總結(jié)
本發(fā)明提供了一種鈦黑在制備鈦系鋰吸附劑中的應(yīng)用、鈦系鋰吸附劑及其制備方法和應(yīng)用,具體涉及鋰吸附劑技術(shù)領(lǐng)域。所述鈦黑的化學(xué)式為Ti<subgt;4</subgt;O<subgt;7</subgt;,具有氯化鈉型立方晶型和金紅石型正方晶形。本發(fā)明采用具有氯化鈉型立方晶型和金紅石型正方晶型的鈦黑(Ti<subgt;4</subgt;O<subgt;7</subgt;)作為鈦源,Ti<subgt;4</subgt;O<subgt;7</subgt;中鈦的價(jià)態(tài)包括正三價(jià)(Ti<supgt;3+</supgt;)和正四價(jià)(Ti<supgt;4+</supgt;)。這兩種價(jià)態(tài)的存在使得鈦黑同時(shí)具備氯化鈉型立方晶型和金紅石型正方晶型的結(jié)構(gòu)特征。這種獨(dú)特的晶體結(jié)構(gòu)為鋰離子提供了兩種不同的占位點(diǎn),增加了鋰離子的吸附位點(diǎn)數(shù)量。此外,正三價(jià)鈦離子的存在能夠促進(jìn)鋰離子在鈦系鋰吸附劑晶格中的快速遷移,從而有效提高了鈦系鋰吸附劑的吸附速率。

技術(shù)研發(fā)人員:李天玉,莫恒亮,謝鵬,陳春生,楊恒宇,呂龍,彭彥蘋,周運(yùn)安,王鈺
受保護(hù)的技術(shù)使用者:北京華特源科技有限公司
技術(shù)研發(fā)日:
技術(shù)公布日:2025/6/26
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